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专为满足精密抛光应用（包括超精抛光）的严苛要求而设计。ULTRA-SOL® C100采用粒径分布均匀的纳米氧化铈磨料。凭借数十年金刚石微粉化领域的经验，Pureon能够实现对C100产品的高精度控制。该产品专为超精抛光应用开发，适用于需要表面粗糙度低于1埃且划痕深度极低的场景。此类悬浮液通常与沥青抛光垫或多孔聚合物垫配合使用。在生产过程中严格遵循ISO 9001标准，通过统计质量控制/统计过程控制方法及自动化流程管控，确保不同批次产品性能的高度一致性。
典型应用：石英玻璃、普通玻璃、微晶玻璃
产品亮点：
- 全球粒径最小、稳定性最强的铈基颗粒
- 光学材料超精抛光的理想磨料
- 超越半导体STI CMP工艺标准
- 兼容沥青抛光垫与抛光布

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